维易科精密仪器国际贸易(上海)有限公司

公司简介

纳米世界的解决方案
美国维易科(Veeco)精密仪器有限公司
美国维易科(Veeco)精密仪器有限公司(纳斯达克上市公司,代码:VECO)是的精密测量仪器和工艺设备制造商。公司的主要品牌有:DI扫描探针显微镜、近场光学显微镜、DEKTAK探针轮廓仪、WYKO激光干涉仪和光学轮廓仪、NEXUS离子束沉积系统、TurboDisc金属有机化学汽相沉积、VEECO分子束外延系统、SPECTOR镀膜系统、VEECO离子源等等。产品的服务领域广阔,其中代表性的应用涉及数据存储、半导体设备、光通讯和无线通讯和科学研究。公司致力于协助全球的用户开拓新的技术、经验和服务支持,并为人类技术进步创造着崭新的未来。
相关产品

联系方式

公司地址:
中国(上海)自由贸易试验区华申路180号综合楼第4层401B部位
固定电话:
(021)50462630 未核实,仅供参考
经理:
JOHN R PEELER
手机号码:
未提供
电子邮件:
hr@veecoasia.com
邮政编码:
200131
地区编码:
310000
顺企采购:
请卖家联系我

其他联系方式

手机号码181****9730

工商信息和基本资料

法人名称:维易科精密仪器国际贸易(上海)有限公司
简称:维易科精密仪器国际
主要经营产品:保税区内以精密仪器为主的测量和加工设备及其相关产品仓储、分拨业务和相关产品的维修,售后服务,国际贸易,转口贸易、保税区内企业间贸易及保税区贸易代理,通过国内有进出口经营权的企业代理与非保税区企业从事贸
经营范围:区内以精密仪器为主的测量和加工设备及其相关产品的仓储、分拨业务和相关产品的维修、售后服务、技术培训、技术咨询;国际贸易、转口贸易、区内企业间贸易及区内贸易代理;区内商业性简单加工及商品展示;贸易咨询服务;精密仪器及其测量和加工设备、零配件的批发、佣金代理(拍卖除外)、进出口及其它相关配套业务(不涉及...
营业执照号码:91310000747623257R
发证机关:自由贸易试验区市场监督管理局
经营状态:存续
成立时间:2003年03月05日
注册资本:20 (万元)
公司官网:http://www.veeco.com
所属分类:仓储业
所属城市:上海企业网 浦东新区 浦东新区外高桥保税区
类型:有限责任公司(外国法人独资)
顺企编码:18381074

维易科精密仪器国际贸易(上海)有限公司的股东

股东名字出资比例出资额
VEECO INSTRUMENTS INC100万美元

维易科精密仪器国际贸易(上海)有限公司的工商变更记录

变更项目变更后变更前时间
章程修正案备案2022-01-28 章程修正案2021-06-10章程备案2022-02-23
法定代表人变更毛华WILLIAM JOHN MILLER2022-02-23
董事备案John Patrick Kiernan Gary William Reifert WILLIAM JOHN MILLER [新增]John Patrick Kiernan Gary William Reifert2022-02-23
经营范围变更一般项目:区内以精密仪器为主的测量和加工设备及其相关产品的仓储、分拨业务和相关产品的安装、调试、维修、售后服务、技术培训、技术咨询;国际贸易、转口贸易、区内企业间贸易及区内贸易代理;区内商业性简单加工及商品展示;贸易咨询服务;精密仪器及其测量和加工设备、零配件的批发、佣金代理(拍卖除外)、进出口及其它相关配套业务(不涉及国营贸易管理商品,涉及配额、许可证管理、专项规定管理的商品按照国家有关规定办理)。(除依法须经批准的项目外,凭营业执照依法自主开展经营活动)区内以精密仪器为主的测量和加工设备及其相关产品的仓储、分拨业务和相关产品的维修、售后服务、技术培训、技术咨询;国际贸易、转口贸易、区内企业间贸易及区内贸易代理;区内商业性简单加工及商品展示;贸易咨询服务;精密仪器及其测量和加工设备、零配件的批发、佣金代理(拍卖除外)、进出口及其它相关配套业务(不涉及国营贸易管理商品,涉及配额、许可证管理、专项规定管理的商品按照国家有关规定办理)。 【依法须经批准的项目,经相关部门批准后方可开展经营活动】2021-07-05
章程修正案备案2021-06-10 章程修正案2019-02-01章程备案2021-07-05
董事备案John Patrick Kiernan [新增] Gary William Reifert [新增]PAUL JAMES ANTOLLI [退出] SHUBHAM MAHESHWARI [退出]2020-03-16
法定代表人变更WILLIAM JOHN MILLERJohn R Peeler2019-04-22
董事备案PAUL JAMES ANTOLLI [新增] SHUBHAM MAHESHWARITIM TIANBING LIU [退出] SHUBHAM MAHESHWARI2019-04-22
经理备案毛华 [新增]2019-04-22
章程修正案备案2019-02-01 章程修正案2017-05-04章程备案2019-04-22
章程修正案备案2017-05-04 章程修正案2017-05-04
董事备案TIM TIANBING LIU [新增] SHUBHAM MAHESHWARI [新增]PETER GERALD COLLINGWOOD [退出] DAVID D. GLASS [退出]2014-08-13
董事备案TIM TIANBING LIU;SHUBHAM MAHESHWARIPETER GERALD COLLINGWOOD;DAVID D. GLASS2014-08-13

维易科精密仪器国际贸易(上海)有限公司的领导人员

名字职务
John R Peeler董事长
SHUBHAM MAHESHWARI董事
TIM TIANBING LIU董事

维易科精密仪器国际贸易(上海)有限公司的专利证书

CN105140166A发明公布2015-12-09用于提高衬底载体的性能的方法基本电气元件J·曼古姆;W·E·奎因
CN102598239B发明授权2015-07-29用于提高衬底载体的性能的方法基本电气元件J·曼古姆;W·E·奎因
CN303997035S外观设计2017-01-04自对中晶片承载系统S·克里士南;A·I·古拉雷;张正宏;E·马塞罗
CN102460647A发明公布2012-05-16连续进给化学气相淀积系统基本电气元件E·A·阿莫尔;W·E·奎恩;P·斯费尔拉佐
CN102598239A发明公布2012-07-18用于提高衬底载体的性能的方法基本电气元件J·曼古姆;W·E·奎因
CN102460648A发明公布2012-05-16辊到辊化学气相淀积系统E·A·阿莫尔;W·E·奎恩;P·斯费尔拉佐
CN102712993A发明公布2012-10-03直线淀积源对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制C·康罗伊;S·W·普里迪;J·A·达尔斯特伦;R·布雷斯纳汉;D·W·戈特霍德;J·帕特林
CN102301032A发明公布2011-12-28具有加热的泻流孔的真空沉积源对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制S·W·普里迪;C·M·康伦
CN106256929A发明公布2016-12-28用于化学气相沉积的自定心晶片载体系统S·克里士南;A·I·古拉雷;张正宏;E·马塞罗
CN206127420U实用新型2017-04-26用于化学气相沉积反应器的自定心晶片载体系统和单晶片基板载体S·克里士南;A·I·古拉雷;张正宏;E·马塞罗
CN104377140A发明公布2015-02-25用于提高衬底载体的性能的方法基本电气元件J·曼古姆;W·E·奎因
CN101845612B发明授权2012-04-25线沉积源及产生沉积流的方法对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制C·康罗伊;S·W·普里迪;J·A·达尔斯特伦;R·布雷斯纳汉;D·W·戈特霍德;J·帕特林
CN104302807B发明授权2017-04-05用于化学气相沉积的具有铁磁流体密封件的转盘反应器对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制L·S·巴里斯;R·A·科穆纳莱;R·P·弗雷姆根;A·I·古拉雷;T·A·卢斯;R·W·米尔盖特三世;J·D·波洛克
CN102365712A发明公布2012-02-29幅材基板沉积系统基本电气元件P·斯费尔拉佐
CN101845612A发明公布2010-09-29线沉积源对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制C·康罗伊;S·W·普里迪;J·A·达尔斯特伦;R·布雷斯纳汉;D·W·戈特霍德;J·帕特林
CN304089502S外观设计2017-03-29晶片承载装置S·克里士南;A·I·古拉雷;张正宏;E·马塞罗
CN303988327S外观设计2016-12-28用于化学气相沉积的自对中晶片承载系统S·克里士南;A·I·古拉雷;张正宏;E·马塞罗
CN104302807A发明公布2015-01-21用于化学汽相沉积的具有铁磁流体密封件的转盘反应器对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制L·S·巴里斯;R·A·科穆纳莱;R·P·弗雷姆根;A·I·古拉雷;T·A·卢斯;R·W·米尔盖特三世;J·D·波洛克
CN105734532A发明公布2016-07-06用于化学汽相沉积的具有铁磁流体密封件的转盘反应器对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制L·S·巴里斯;R·A·科穆纳莱;R·P·弗雷姆根;A·I·古拉雷;T·A·卢斯;R·W·米尔盖特三世;J·D·波洛克
CN102686765A发明公布2012-09-19直线淀积源对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制C·康罗伊;S·W·普里迪;J·A·达尔斯特伦;R·布雷斯纳汉;D·W·戈特霍德;J·帕特林

维易科精密仪器国际贸易(上海)有限公司的分公司

分公司名称地址成立时间
维易科精密仪器国际贸易(上海)有限公司北京办事处北京市海淀区中关村大街甲38号燕山大酒店1403、1404室2003-09-23 00:00:00.000
维易科精密仪器国际贸易(上海)有限公司北京办事处北京市海淀区中关村大街甲38号燕山大酒店1403、1404室2003-09-23 00:00:00.000
维易科精密仪器国际贸易(上海)有限公司北京分公司北京市朝阳区南磨房路37号1701-1703室(华腾北搪集中办公区178025号)2006-10-31 00:00:00.000
维易科精密仪器国际贸易(上海)有限公司北京分公司北京市朝阳区南磨房路37号1701-1703室(华腾北搪集中办公区178025号)
维易科精密仪器国际贸易(上海)有限公司上海办事处上海市浦东南路256号2404室2005-01-04 00:00:00.000
维易科精密仪器国际贸易(上海)有限公司第一分公司中国(上海)自由贸易试验区金海路1000号31幢5楼东区(注册地址)2013-04-18 00:00:00.000

维易科精密仪器国际贸易(上海)有限公司的法律诉讼:

文书名称日期编号
维易科精密仪器国际贸易(上海)有限公司与周影劳动合同纠纷一审民事判决书2015-12-15 (2015)浦民一(民)初字第37886号
陈国兵寻衅滋事一审刑事判决书2015-12-21 (2015)浦刑初字第5282号
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