成都西沃克真空科技有限公司

公司简介

成都西沃克真空科技有限公司,位于锦官城成都,成都蛟龙工业港双流园区东海路66座,于2007年01月26日在成都成立。公司资金充裕,注册资本170 万元人民币,在李小林带领下,西沃克真空已经为客户提供了18年优质的服务,公司主要提供生产、销售:真空应用设备及配套产品、电子机械专用设备、半导体元器件及组装、实验分析仪器、光学仪器及零部件、光学材料、机械设备、计算机软件开发及技术咨询。, 欢迎各界朋友莅临参观、指导和业务洽谈

联系方式

公司地址:
成都蛟龙工业港双流园区东海路66座
经理:
李小林
邮政编码:
610000
传真号码:
86-028-85739676
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其他联系方式

电子邮箱cvac1962@163.com
座机号码028-85739698

工商信息和基本资料

法人名称:
成都西沃克真空科技有限公司
简称:
西沃克真空
主要经营产品:
未提供
经营范围:
生产、销售:真空应用设备及配套产品、电子机械专用设备、半导体元器件及组装、实验分析仪器、光学仪器及零部件、光学材料、机械设备、计算机软件开发及技术咨询。(依法须批准的项目,经相关部门批准后方可开展经营活动)。
营业执照号码:
915101227978147801
发证机关:
成都市双流区市场监督管理局
法人类型:
有限责任公司(自然人投资或控股)
地区编码:
510122
组织机构代码:
79781478-0
核准日期:
2016-07-01
经营期限:
3999-01-01
经营状态:
在业
成立时间:
2007年01月26日
注册资本:
170 万元人民币 (万元)
所属行业:
食用油加工设备 » 双流县食用油加工设备
所属城市黄页:
成都企业网 » 双流县
顺企编码:
1596499

成都西沃克真空科技有限公司的股东

股东名字出资比例出资额
李小林73.53%人民币125万元
唐志宇8.82%人民币15万元
徐子明8.82%人民币15万元
傅绍英8.82%人民币15万元

成都西沃克真空科技有限公司的工商变更记录

变更项目变更后变更前时间
投资人变更徐子明 出资 15万人民币; 傅绍英 出资 15万人民币; 唐志宇 出资 15万人民币; 李小林 出资 125( + 8.69565% )万人民币;徐子明 出资 15万人民币; 傅绍英 出资 15万人民币; 唐志宇 出资 15万人民币; 李小林 出资 115万人民币; 贺永云 出资 10万人民币; [退出]2021-03-29
章程备案-2021-03-29
经营范围变更生产、销售:真空应用设备及配套产品、电子机械专用设备、半导体元器件及组装、实验分析仪器、光学仪器及零部件、光学材料、机械设备、计算机软件开发及技术咨询。(依法须批准的项目,经相关部门批准后方可开展经营活动)。生产、销售真空应用设备及配套产品。(依法须批准的项目,经相关部门批准后方可开展经营活动)。2016-12-27
投资人变更生产、销售:真空应用设备及配套产品、电子机械专用设备、半导体元器件及组装、实验分析仪器、光学仪器及零部件、光学材料、机械设备、计算机软件开发及技术咨询 (依法须批准的项目,经相关部门批准后方可开展经营活动)生产、销售真空应用设备及配套产品 (依法须批准的项目,经相关部门批准后方可开展经营活动)2016-12-27
经营范围变更生产、销售 :真空应用设备及配套产品 、电子机械专用设备、半导体元器件及组装、实验分析仪器、光学仪器及零部件、光学材料、机械设备、计算机软件开发及技术咨询。(依法须批准的项目,经相关部门批准后方可开展经营活动)。生产、销售真空应用设备及配套产品。(依法须批准的项目,经相关部门批准后方可开展经营活动)。2016-12-27
投资人变更傅绍英;贺永云;李小林;唐志宇;徐子明;贺永云;傅绍英;蒋琰;李小林;唐志宇;徐子明;2016-07-01
股东或股份发起人改变姓名或名称变更傅绍英; 贺永云; 李小林; 唐志宇; 徐子明;贺永云; 傅绍英; 蒋琰; [退出] 李小林; 唐志宇; 徐子明;2016-07-01
投资人变更傅绍英; 贺永云; 李小林; 唐志宇; 徐子明;贺永云; 傅绍英; 蒋琰; [退出] 李小林; 唐志宇; 徐子明;2016-07-01
经理备案李小林,董事长兼总经理/2015-04-14
出资额变更170徐子明;李小林;贺永云;傅绍英;2015-04-14

成都西沃克真空科技有限公司的组织架构

名字职务
傅绍英董事
贺永云监事
李小林董事长兼总经理
唐志宇监事
徐子明董事

成都西沃克真空科技有限公司的注册商标

图片注册号商标名分类分类ID状态日期
20349875CVAC机械设备7等待受理通知书发文2016-06-17
20349875CVAC机械设备7等待受理通知书发文2016-06-17

成都西沃克真空科技有限公司的专利证书

CN205542569U实用新型2016-08-31一种超高电压真空绝缘装置基本电气元件徐子明;向勇;傅绍英;沈英东;闫宗楷
CN205688006U实用新型2016-11-16一种工件装夹夹具对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制徐子明;傅绍英;向勇;胡杨
CN105890345A发明公布2016-08-24一种真空炉炉;窑;烘烤炉;蒸馏炉向勇;傅绍英;杨小军
CN205529025U实用新型2016-08-31一种类金刚石碳膜沉积装置对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制向勇;傅绍英;徐子明;杨小军;闫宗楷
CN205529026U实用新型2016-08-31一种前开门式类金刚石碳膜沉积装置对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制向勇;傅绍英;徐子明;孙力
CN205714650U实用新型2016-11-23一种真空排气台液体变容式机械;液体泵或弹性流体泵徐子明;傅绍英;向勇;刘雯;闫宗楷
CN105671518A发明公布2016-06-15一种类金刚石碳膜沉积装置对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制向勇;傅绍英;徐子明;杨小军;闫宗楷
CN105671517A发明公布2016-06-15一种前开门式类金刚石碳膜沉积装置对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制向勇;傅绍英;徐子明;孙力
CN105887036A发明公布2016-08-24一种工件装夹夹具对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制徐子明;傅绍英;向勇;胡杨
CN105671509A发明公布2016-06-15一种球面靶阴极机构及溅射镀膜装置对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制徐子明;向勇;傅绍英;闫宗楷;李乐
CN205688003U实用新型2016-11-16一种卷对卷磁控溅射真空镀膜装置对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制向勇;傅绍英;胡杨;杨小军
CN105714274A发明公布2016-06-29一种等离子体增强化学气相沉积设备及制膜方法对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制向勇;傅绍英;孙赫;闫宗楷
CN205529031U实用新型2016-08-31一种等离子体增强化学气相沉积设备对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制向勇;傅绍英;孙赫;闫宗楷
CN205688005U实用新型2016-11-16一种球面靶阴极机构及溅射镀膜装置对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制徐子明;向勇;傅绍英;闫宗楷;李乐
CN105679596A发明公布2016-06-15一种超高电压真空绝缘装置基本电气元件徐子明;向勇;傅绍英;沈英东;闫宗楷
CN105697332A发明公布2016-06-22一种真空排气台液体变容式机械;液体泵或弹性流体泵徐子明;傅绍英;向勇;刘雯;闫宗楷
CN205529027U实用新型2016-08-31一种双通道类金刚石碳膜沉积装置对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制向勇;傅绍英;徐子明;杨小军;孙力
CN206037691U实用新型2017-03-22一种真空炉炉;窑;烘烤炉;蒸馏炉向勇;傅绍英;杨小军
CN105671508A发明公布2016-06-15一种卷对卷磁控溅射真空镀膜装置对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制向勇;傅绍英;胡杨;杨小军
CN105908133A发明公布2016-08-31一种共蒸设备对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制杨小军;向勇;傅绍英

成都西沃克真空科技有限公司的法律诉讼:

文书名称日期编号
东泰(成都)真空镀膜工程有限公与成都西沃克真空科技有限公司企业借贷纠纷一审民事裁定书2015-08-04 (2015)龙泉民初字第3087号
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