沈阳市同方真空应用技术研究所

单位简介

沈阳市同方真空应用技术研究所,办公室地址位于东北第一大城市,一朝发祥地,两代帝王都的沈阳,沈阳市大东区北大营东路53号,于2002年06月05日在沈阳成立,我单位主要提供真空应用技术、真空镀膜设备、真空炉业、真空获得设备、真空器件、非标准设备研究、设计。

联系方式

单位地址:
沈阳市大东区北大营东路53号 -
联系人:
崔晓彤
电子邮件:
82876138@163.com
邮政编码:
110042
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电子邮箱82876138@163.com
手机号码13252801490

工商信息和基本资料

法人名称:
沈阳市同方真空应用技术研究所
简称:
同方真空应用技术研究所
主要经营产品:
真空应用技术 , 真空镀膜设备 , 真空炉业 , 真空获得设备 , 真空器件 , 非标准设备研究 , 设计
经营范围:
真空应用技术、真空镀膜设备、真空炉业、真空获得设备、真空器件、非标准设备研究、设计、试产、试销。(依法须经批准的项目,经相关部门批准后方可开展经营活动。
营业执照号码:
912101047386660520
发证机关:
沈阳市大东区市场监督管理局
法人类型:
个人独资企业
地区编码:
210104
组织机构代码:
73866605-2
核准日期:
2016-06-29
经营期限:
永久
经营状态:
存续
成立时间:
2002年06月05日
所属行业:
专业技术服务业 » 大东区专业技术服务业
所属城市黄页:
沈阳企业网 » 大东区
顺企编码:
10468126

沈阳市同方真空应用技术研究所的股东

股东名字出资比例出资额
崔晓彤100%人民币10万元

沈阳市同方真空应用技术研究所的工商变更记录

变更项目变更后变更前时间
地址变更沈阳市大东区北大营东路53号沈阳市大东区大什字街11-1号2005-05-11
投资人变更1崔晓彤;2003-05-30
经营范围变更真空应用技术、真空镀膜设备、真空炉业、真空获得设备、真空器件、非标准设备研究、设计、试产、试销。真空应用技术、真空镀膜设备、真空炉业、真空获得设备、真空器件、非标准设备研究、设计。2003-05-30
投资人信息变更崔晓彤; [新增]d6609ca-fd23-4da7-961f-5381c0b54bc9 [退出]2003-05-30
投资人变更崔晓彤; [新增]-2003-05-30

沈阳市同方真空应用技术研究所的组织架构

名字职务
崔晓彤负责人
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