苏州新锐博纳米科技有限公司是一家从事纳米结构薄膜制备设备的设计、制造、销售及其应用工艺研发与技术服务的高新技术企业。公司创建于2012年9月,其核心技术来自于公司创建者在德国、英国、日本及国内高校从事科研与开发的长期积累。公司以团簇(纳米粒子)束流技术在纳米制造上的规模化工业应用为目标,研发团簇束流技术相关的气相沉积、超浅层注入及表面分析的全套先进设备,开展纳米粒子束流系统与沉积技术的工业应用方案设计、技术服务与产品代工,发展纳米粒子束流在纳米光电与传感器件、微机电器件工业制程中的应用技术。
公司已开发完成具有世界先进水平的团簇束流源及束流沉积系统的全套设备,形成了研究型与工艺开发型两个系列,并正在进行工业应用型设备的开发。此外,公司还提供激光分子束外延、紧凑型多功能镀膜仪等工艺开发设备及相关部件。在应用技术方面,公司还开发了基于团簇束流沉积技术的纳米结构薄膜与传感器件的系列制备工艺,持有相关的核心知识产权。其中所开发的以纳米粒子点阵中的量子输运为物理基础的氢传感器件,其灵敏度、量程范围、响应时间及能耗都全面超越市场现有产品,性能先进的压力、应变纳米传感器件系列也正在开发中。公司将以整机、器件、代工、工艺转让等多种形式向市场推出这类先进的纳米传感器件。新锐博公司以团簇束流设备为体,以先进纳米传感器件制备工艺为用,发展纳米制造的中国力量。
苏州新锐博纳米科技有限公司是产品专业生产加工的公司,拥有完整、科学的质量管理体系。苏州新锐博纳米科技有限公司的诚信、实力和产品质量获得业界的认可。欢迎各界朋友莅临参观、指导和业务洽谈。
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- 苏州工业园区仁爱路99号D区212室
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工商信息和基本资料
法人名称: | 苏州新锐博纳米科技有限公司 |
简称: | 新锐博纳米 |
主要经营产品: | 氢气传感器; 叉指电极; 激光MBE装置; 电子束光测; 多靶磁控溅射共沉积系统; 研究型簇束流系统; 簇束流沉积系统; 显微分析加工服务 |
经营范围: | 研发、销售:纳米技术设备及其部件、传感器、传感系统、光电材料与器件、一类医疗器械、纳米纺织品;从事上述产品的技术转让、技术咨询与技术服务。(依法须经批准的项目,经相关部门批准后方可开展经营活动) |
营业执照号码: | 913205940551782799 |
发证机关: | 苏州工业园区行政审批局 |
核准日期: | 2016-05-11 |
经营状态: | 存续 |
成立时间: | 2012年10月08日 |
职员人数: | 11人 |
注册资本: | 208万元人民币 (万元) |
所属分类: | 其他泵公司 |
所属城市: | 苏州企业网 |
顺企编码: | 19286350 |
苏州新锐博纳米科技有限公司的股东
股东名字 | 出资比例 | 出资额 |
---|---|---|
韩民 | 65.38% | 人民币136万元 |
陆伟华 | 34.62% | 人民币72万元 |
苏州新锐博纳米科技有限公司的工商变更记录
变更项目 | 变更后 | 变更前 | 时间 |
---|---|---|---|
股东变更 | 韩民 陆伟华 | 韩民 陆伟华 宋凤麒 [退出] | 2016-11-11 |
股东变更 | 韩民,陆伟华 | 韩民,陆伟华,宋凤麒 | 2016-11-11 |
苏州新锐博纳米科技有限公司的领导人员
名字 | 职务 |
---|---|
陆伟华 | 执行董事兼总经理 |
韩民 | 监事 |
苏州新锐博纳米科技有限公司的专利证书
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CN103792271A | 发明公布 | 2014-05-14 | 一种过氧化氢非酶电化学传感器及制备方法 | 测量;测试 | 张勤芳;陆伟华;廖开明;王保林 |
CN103336149A | 发明公布 | 2013-10-02 | 基于纳米粒子点阵量子输运的原子力显微微悬臂及应用 | 测量;测试 | 陆伟华;谢波;邵玮 |
CN103336036A | 发明公布 | 2013-10-02 | 一种传感参数可控的钯纳米粒子点阵氢气传感器 | 陆伟华 | |
CN103336149B | 发明授权 | 2015-07-29 | 基于纳米粒子点阵量子输运的原子力显微微悬臂及应用 | 测量;测试 | 陆伟华;谢波;邵玮 |
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CN103779499A | 发明公布 | 2014-05-07 | 一种Ag纳米粒子点缀石墨烯复合薄膜材料及制备 | 张勤芳;廖开明;陆伟华;王保林 | |
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CN102914395B | 发明授权 | 2015-04-08 | 基于金属纳米间隙的纳米应力传感器及其制备方法 | 谢波;郑蒙阳;陆伟华 | |
CN102925863B | 发明授权 | 2014-12-24 | 一种产生亚稳相纳米颗粒束流和沉积纳米薄膜的气相方法 | 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制 | 陆伟华 |
CN205050802U | 实用新型 | 2016-02-24 | 适用于高气压下的分子束外延生长的实时监测荧光屏座 | 基本电气元件 | 马建行;陆伟华;邵玮 |
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